ASUMI技研等離(lí)子體(tǐ)表面清洗裝置 等離(lí)子體(tǐ)表面清洗裝置 真空等離(lí)子體(tǐ)表面改性裝置
查看詳細介紹
ASUMI技研準分(fēn)子照射裝置定制事例 準分(fēn)子照射裝置定制事例 用于R&D用掃描式準分(fēn)子照射裝置（ 400mm ）照射寬度400mm的準分(fēn)子照射單元的掃描式照射裝置。 大(dà)工(gōng)件尺寸爲400×800mm。 型号ASM400 E
查看詳細介紹
ASUMI技研株式會社掃描準分(fēn)子發射器 掃描準分(fēn)子發射器 将以172nm爲主波長的準分(fēn)子照射單元和掃描用載物(wù)台、臭氧分(fēn)解裝置一(yī)體(tǐ)化，僅用100V的電(diàn)源就能簡單且安全地進行準分(fēn)子表面改性實驗的裝置。 【特征】掃描用 可通過掃描用載物(wù)台進行比以往更大(dà)面積的處理。
查看詳細介紹
ASUMI技研株式會社準分(fēn)子照射裝置 準分(fēn)子照射裝置 采用以172nm紫外(wài)線爲主波長的準分(fēn)子照射裝置進行表面改性。因爲采用了RF （高頻(pín)）放(fàng)電(diàn)燈，閃爍少的穩定的輸出功率。 另外(wài)采用平面型燈，大(dà)面積實現了均勻的照射 準分(fēn)子照射裝置（主波長: 172nm ）
查看詳細介紹
ASUMI技研UV臭氧清洗表面改性裝置 UV臭氧清洗表面改性裝置 低壓水銀燈發出的184.9nm和253.7nm的紫外(wài)線，去(qù)除有機物(wù)和改善表面。 提供一(yī)套從較适合塗層前的潤濕性方向和粘附性方向的R&D用小(xiǎo)型裝置到生(shēng)産用裝置、其他評價裝置和臭氧分(fēn)解裝置等附屬品 UV臭氧清洗重整裝置ASM2003N
查看詳細介紹
ASUMI技研株式會社塗複裝置 浸塗機器 塗複裝置 浸塗機器 研究用小(xiǎo)型裝置 定制設備 半定量生(shēng)産裝置 連續式量産裝置 預處理裝置 後處理裝置
查看詳細介紹
在線客服